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反应离子蚀刻

PlasmaPro 100 RIE 模块可为各种工艺提供各向异性干法蚀刻。

兼容所有尺寸达 200mm 的晶圆

出色的均匀性、高产量和高精度工艺

原位腔室清洁和终点

宽温度范围电极,-150°C 至 400°C


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